COF2；有機合成中間體，氟化劑。

CHF3；蝕刻，冷凍劑，有機合成。

CH2F2；致冷劑。

CH3F；噴霧劑，C-F鍵的研究。

WF6；氟化劑，鎢載體，化學氣相沉積。

SF6；電子設備，雷達波導，粒子加速器，變壓器，避雷器的氣   絕緣體，制冷劑，示蹤裝置，醫(yī)療，半導體制造中的蝕刻、化學氣相沉積，標準氣，檢漏氣體，色譜儀的載氣。

NF3；火箭推進劑，氟化劑，電子氣，等離子干刻，摻雜，激光，光導纖維 。

SiF4；有機硅化合物的合成材料，水泥和人造大理石的硬化劑，氟硅酸及氟化硅的制造，硅的外延生長，等離子蝕刻，太陽能電池，復印機感光筒，非晶硅膜生長，化學氣相沉積。

C3F8；高壓絕緣，制冷劑，等離子干刻。

C2F6；等離子干刻，冷卻，制冷和空調，化學反應中的添氟劑，電氣設備的絕緣劑。

CF4；制冷，氣體絕緣，干蝕刻氣，氟化劑，表面處理劑，激光氣體泄漏檢驗劑。

BF3；有機合成催化劑，火箭的高能燃料，核技術，半導體制造用摻雜氣，離子注入氣，光導纖維制造，煙熏劑。

HF；制備氟里昂氣及其他氟化物，乙醇、乙醛、乙醚（液休HF）的溶劑，聚合、烴化反應的催化劑，玻璃雕刻，殺菌劑，清洗金屬，清洗鑄件，電鍍，濾紙的處理，礦石類的分析，鍺、硅的蝕刻劑。

F2；火箭燃料的氧化劑，分離鈾同位素，金屬的焊接和切割，電鍍，玻璃加工，鹵化氟的原料，氟化物，含氟塑料，氟橡膠的制造，藥物，農藥，殺蟲劑，冷凍劑，等離子蝕刻。