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: 光纖中氣體的使用

第二步包括在通過蒸汽沉積工藝獲得芯棒和制造預(yù)制光纖棒的基礎(chǔ)上添加涂層。化學(xué)氣相沉積的主要反應(yīng)是在氫化氧火焰環(huán)境中水解SiCl4和GeCl4，產(chǎn)生SiO2和GeO2粉塵（SOOT）。 SiCl4和GeCl4必須通過蒸汽或氬氣加熱并輸送到反應(yīng)室中。其他常用的特殊氣體有CH4、CF4、 ?Cl2、SF6等。
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: 高純氮?dú)獾南缿?yīng)急措施

量隔離泄漏源。避免在與火源碰撞時，在淺層區(qū)域沉積可能導(dǎo)致爆炸的氣體。用排煙風(fēng)機(jī)將泄漏的廢氣送入開放空間。
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: 充SF6氣體時應(yīng)注意的事項

充SF6氣體時應(yīng)注意的事項 SF6有必要的設(shè)備來生產(chǎn)有毒物質(zhì)。如果SF6氣體含有超過特定量的水分，當(dāng)濕度變化時，它可以集中在固體絕緣表面，并將表面水分轉(zhuǎn)化為表面。SF6。在電弧和電暈活動過程中，氣體沉積產(chǎn)生的低氟結(jié)合氣體在沒有水分子的外部條件下不會產(chǎn)生SO2、HF和其他有害物質(zhì)，從而避免它們引起的設(shè)備腐蝕。因此，當(dāng)SF6供應(yīng)充滿汽油時，應(yīng)采取嚴(yán)格措施防止水進(jìn)入。（1）工作開始前，應(yīng)測量該區(qū)域周圍空氣的相對濕度80%（即在相同溫度下，空氣中的水入口與測量的水入口的百分比
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: 氦質(zhì)譜檢漏儀半導(dǎo)體設(shè)備及材料檢漏應(yīng)用

真空設(shè)備越來越多地應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)，如真空分離器（蒸發(fā)、濺射）、干式噴砂設(shè)備、熱處理設(shè)備（合金爐、退火爐）、摻雜設(shè)備（離子注入機(jī)等），這些設(shè)備將作為半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展不可或缺的條件發(fā)揮越來越重要的作用。真空設(shè)備越來越多地用于半導(dǎo)體行業(yè)，如真空沉積設(shè)備（蒸發(fā)、濺射）、干式噴砂設(shè)備（ICP、RIE、PECVD）、熱處理設(shè)備（合金爐、退火爐）、摻雜設(shè)備（離子注入機(jī)等），這將作為半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展的先決條件發(fā)揮越來越重要的作用。氦質(zhì)譜泄漏檢測器今天被廣泛用于半導(dǎo)體系統(tǒng)中的泄漏檢測。半導(dǎo)體器件和材料泄漏檢測的原因：
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: 含氟蝕刻氣體的種類和介紹

目前，氟化蝕刻氣體是一種隱形的“刀具”，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體或LCD前端工藝，甚至可以在微米厚的薄層上切割納米級凹槽。你能仔細(xì)想想這幅畫嗎？那么，氟化蝕刻氣體是什么呢？它們是如何工作的？用于蝕刻的氣體稱為蝕刻氣體，通常是氟化物氣體，如四氟、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。含氟蝕刻氣體是電子氣體的一個重要分支，是制造超大集成電路、平面顯示器、太陽能電池和玻璃纖維等電子工業(yè)不可或缺的原材料。它們被廣泛用于半導(dǎo)體工藝，如薄膜、蝕刻、摻雜、氣相沉積和擴(kuò)散。國家發(fā)展改革委《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)
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: 電子特種氣體是特種氣體的一個重要分支

特種電子氣體（以下簡稱特種電子氣體）是特種氣體的一個重要分支，是集成電路（IC）、平面顯示設(shè)備（LCD、LED、OLED）、太陽能電池等電子工業(yè)生產(chǎn)不可或缺的原材料。電子氣體廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品的工藝，如離子注入、蝕刻、氣相沉積、摻雜等。電子半導(dǎo)體器件的性能與電子氣體的質(zhì)量密切相關(guān)。產(chǎn)業(yè)鏈上下游工業(yè)氣體工業(yè)的原料是空氣、工業(yè)廢氣、基礎(chǔ)化學(xué)原料等。其上游產(chǎn)業(yè)為氣體分離和清潔設(shè)備、基礎(chǔ)化學(xué)原料工業(yè)、壓力容器設(shè)備等。下游領(lǐng)域包括集成電路、液晶面板、LED、光纖通信、光伏、醫(yī)療健康、節(jié)能環(huán)保、新材料、
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: 高純氨氣制取的四項關(guān)鍵技術(shù)

高純度氨產(chǎn)品是光電子和微電子技術(shù)不可或缺的支撐材料。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體照明、平板顯示器、太陽能電池和大型集成電路的制造。高純度氨的質(zhì)量直接影響材料的光學(xué)和電學(xué)性能，甚至影響設(shè)備的使用壽命。國內(nèi)外都有巨大的潛在市場。隨著國內(nèi)半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，對高純度氨的需求快速增長，高純度電子氣體的國產(chǎn)化是必然的發(fā)展趨勢。高純度氨也是通過有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積（MOCVD）技術(shù)生產(chǎn)第三代復(fù)合半導(dǎo)體材料氮化鎵（GaN）的重要支撐材料。MOCVD生產(chǎn)氮化鎵（GaN）要求所用的氨必須是高純度和超清潔的，純度為7N（99.99
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: 高純氮?dú)獾南缿?yīng)急措施

氮?dú)鈨艋椒ㄖ饕形?、變壓吸附、膜分離等。在生產(chǎn)中，黑色鋼瓶通常用于盛裝氮?dú)狻? 意圖它被用作集成電路、半導(dǎo)體和電真空設(shè)備制造中的保護(hù)氣體和載氣，用于化學(xué)氣相沉積的載氣，液體擴(kuò)散源的載氣以及高溫擴(kuò)散爐中設(shè)備的保護(hù)氣體。在外延、光刻、純化和蒸發(fā)過程中，高純度氮?dú)庥米髦脫Q、干燥、儲存和運(yùn)輸?shù)臍怏w。在生產(chǎn)電影鏡頭時，氮的純度必須高于99.99%。在航空航天技術(shù)中，液態(tài)氫填充系統(tǒng)必須首先由高純度氮?dú)獯妫缓笥筛呒兌群獯妗? 防火措施迅速將受污染區(qū)域內(nèi)的人員疏散到迎風(fēng)的現(xiàn)場，將其隔離并嚴(yán)格限制
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: 奇怪的同位素：科學(xué)家解釋了海底甲烷的同位素悖論

甲烷是一種分子式為CH4的化合物，不僅是一種強(qiáng)烈的溫室氣體，也是一種重要的能源。它為我們的家供暖，甚至海底的微生物也生活在上面。微生物使用一種叫做甲烷厭氧氧化（AOM）的過程，這種過程通常發(fā)生在海底的所謂硫酸鹽-甲烷過渡區(qū)，從海底層開始，海水中的硫酸鹽與更深的沉積物中的甲烷相遇。在這里，一種特殊的微生物，厭氧甲烷氧化（ANME）古菌，消耗甲烷。它們與利用甲烷氧化過程中釋放的電子來還原硫酸鹽的細(xì)菌生活在一起。為此，這些生物形成了特征性的聯(lián)系。這一過程發(fā)生在世界各地的海底，因此是碳循環(huán)的重要組成部分。然
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: 乙烯、乙炔和丙烯的熱解炭的沉積速率

當(dāng)乙烯、乙炔和丙烯在950°下熱解時，熱解碳的化學(xué)氣相沉積速率隨氣體濃度而變化。如果氣體濃度較小，熱解碳的沉積速率與乙炔和丙烯的濃度呈平方關(guān)系，與乙烯的濃度呈立方關(guān)系。隨著濃度的增加，熱解碳的沉積速率遵循飽和吸附的生長模式。因此，在低濃度條件下，CVD實(shí)際上是一個活性位點(diǎn)吸附的飽和吸附生長過程。隨著乙烯和其他氣體濃度的不斷增加，熱解碳的沉積速率線性增加，這是多環(huán)芳烴的縮合成核增長。在900°C和1s的氣體停留時間下，每個組分中碳元素的分布如圖9所示。除未分解的原料氣外，大多數(shù)碳元素在
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